W Chinach ma działać ściśle tajne laboratorium, w którym zmontowano prototyp maszyny do produkcji chipów – kopiowany od spółki ASML z Holandii.
ASML to holenderska firma technologiczna, która jako jedyna na świecie produkuje komercyjne maszyny do tzw. litografii ekstremalnie ultrafioletowej (EUV). To kluczowe urządzenia umożliwiające wytwarzanie najbardziej zaawansowanych procesorów i układów scalonych w technologiach 7 nm, 5 nm, 3 nm i niższych.
Systemy ASML, warte ponad 150 mln euro za sztukę, stanowią fundament nowoczesnego przemysłu półprzewodników i jeden z najważniejszych strategicznych zasobów technologicznych Zachodu. To właśnie dlatego ich eksport do Chin objęty jest ścisłymi ograniczeniami.
Według doniesień agencji Reuters, w Chinach ma działać ściśle tajne laboratorium, w którym zmontowano prototyp maszyny do litografii EUV. Jeśli informacje te są prawdziwe, Pekin mógłby być bliżej przełamania jednego z kluczowych technologicznych embarg. Problem w tym, że „blisko” w tym przypadku wciąż oznacza długie lata pracy.
Z ujawnionych informacji wynika, że chiński system EUV został złożony na początku 2025 roku w silnie strzeżonym obiekcie w Shenzhen i zajmuje niemal całą halę fabryczną. Maszyna ma być zdolna do generowania promieniowania o długości fali 13,5 nm, czyli dokładnie takiego, jakie wykorzystują komercyjne systemy ASML z serii Twinscan NXE.
To jednak w zasadzie jedyny element, który zbliża ją do zachodnich odpowiedników.
EUV to coś więcej niż jedna maszyna
Litografia EUV nie jest pojedynczym urządzeniem, lecz ekstremalnie złożonym ekosystemem. Składają się na niego zaawansowane źródło światła, ultradokładna optyka odbijająca, mechanika działająca z precyzją subnanometrową, systemy pozycjonowania wafli i masek oraz oprogramowanie sterujące, które musi synchronizować wszystkie elementy w czasie rzeczywistym. Każdy z tych komponentów musi pracować niezawodnie w warunkach próżni i ekstremalnych temperatur.
Według Reutersa chiński prototyp wykorzystuje metodę laserowo generowanej plazmy (LPP), identyczną jak w maszynach ASML. Polega ona na bombardowaniu mikroskopijnych kropli stopionej cyny impulsami potężnego lasera CO₂, co prowadzi do powstania plazmy emitującej promieniowanie EUV. Samo odtworzenie tego etapu jest znaczącym osiągnięciem technologicznym, ale nie przesądza jeszcze o funkcjonalności całego systemu.
Maszyna – choć większa od komercyjnych systemów ASML – nie jest dziś zdolna do produkcji użytecznych chipów. Największym problemem pozostaje optyka, czyli precyzyjne zwierciadła pokryte wielowarstwowymi strukturami molibden–krzem, które w systemach ASML dostarcza niemiecki Carl Zeiss. Bez nich promieniowanie EUV nie może być skutecznie zbierane, kształtowane i kierowane na wafle krzemowe.
Prototyp, który nie potrafi produkować układów
Raport jasno wskazuje, że chiński system EUV nie jest obecnie w stanie naświetlać wafli w sposób umożliwiający wytwarzanie półprzewodników. Nie ujawniono nawet mocy źródła EUV, a jest to parametr kluczowy dla opłacalnej produkcji masowej. Brakuje również informacji o stanie systemów mechanicznych – stołów waflowych, mechanizmów transportu czy ultra-precyzyjnych układów pozycjonowania masek.
W praktyce oznacza to, że Chiny nie zbudowały jeszcze nawet w pełni działającego prototypu litografii EUV. To raczej zestaw komponentów zdolnych do generowania promieniowania niż kompletne narzędzie produkcyjne.
Dla porównania, ASML był w stanie naświetlać pierwsze struktury EUV już w 2006 roku, ale na komercyjne systemy przeznaczone do produkcji masowej świat czekał ponad dekadę.
Tajne laboratorium i inżynierowie pod przykrywką
Najbardziej sensacyjna część raportu dotyczy kulis projektu. Według źródeł Reutersa laboratorium działa w pełnej konspiracji, a jego pracownicy mieli otrzymać fałszywe dokumenty tożsamości, by nie zdradzić koncentracji specjalistów w jednym miejscu. Zespół ma składać się z byłych inżynierów ASML oraz setek młodych absolwentów chińskich uczelni technicznych.
Ci ostatni mają zajmować się rozbieraniem i ponownym składaniem elementów maszyn litograficznych EUV i DUV, a cały proces jest monitorowany kamerami. Premie mają trafiać do osób, którym uda się poprawnie złożyć komponenty z powrotem. Problem polega na tym, że system EUV to ponad 100 tysięcy części, które muszą działać razem w idealnej synchronizacji – sama znajomość elementów nie gwarantuje sukcesu.
Dodatkowo ASML nigdy nie dostarczyło maszyn EUV do Chin, co podważa klasyczne rozumienie „reverse engineeringu”. Bardziej prawdopodobne jest wykorzystanie wiedzy i doświadczenia byłych pracowników niż wierne kopiowanie istniejących systemów.
2028 czy raczej 2030?
Chińskie władze mają oczekiwać pierwszych prototypowych chipów wykonanych z użyciem EUV już w 2028 roku. Źródła Reutersa studzą jednak ten optymizm, wskazując, że bardziej realistyczny termin to okolice 2030 roku – o ile projekt zakończy się powodzeniem.
Na dziś wszystko wskazuje na to, że Chiny wykonały istotny krok w stronę niezależności technologicznej, ale do realnej konkurencji z ASML droga pozostaje bardzo długa. EUV to nie tylko maszyna, lecz efekt dekad rozwoju, miliardowych inwestycji i globalnego łańcucha dostaw, którego nie da się odtworzyć w kilka lat – nawet w ściśle tajnym laboratorium.
Foto: ASML.